工業純水在制藥工業中的使用有哪些特別的要求
日期：2025-04-15
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工業純水在制藥工業中的使用有以下特別要求：
水質標準：
電阻率：≥0.5MΩ.CM，電導率：≤2μS。氨≤0.3μg/ml，硝酸鹽≤0.06μg/ml，重金屬≤0.5μg/ml。微生物≤10CFU/100ml，內毒素≤0.25EU/ml。
生產工藝要求：
制備工藝需符合GMP認證，設備全自動運行，具備反沖洗、再生、酸洗、消毒等程序。單體和管道設備需符合GMP要求，如后端處理設備采用316L材料，預處理設備采用UPVC管材。
應用領域：
用于原料的溶解、稀釋，藥品的合成、提取、洗滌等環節。用于器械的清洗和消毒，確保無殘留雜質。
微生物控制：
純化水系統需定期消毒和進行微生物監測，防止微生物滋生。儲存和分配系統需設計合理，避免死角和死水區，確保水質穩定。
設備要求：
制備設備需采用低碳不銹鋼或其他經驗證不污染水質的材料。儲存周期不宜大于24小時，儲罐需采用不銹鋼材料或經驗證無毒、耐腐蝕的材料制作。
工業純水具有以下特點：
一、水質純凈度高
雜質含量極低
工業純水經過多道工序處理，幾乎去除了水中的所有雜質，包括懸浮顆粒、膠體、溶解性固體（如鹽類、有機物等）。例如，其溶解性固體總量（TDS）通常可低至1 - 10μg/L以下，而普通水中TDS可能在幾十到幾百mg/L不等。
離子濃度低
水中的陽離子（如鈉離子、鈣離子、鎂離子等）和陰離子（如氯離子、硫酸根離子等）濃度被嚴格控制。對于高純度的工業純水，其電導率可低至0.05 - 1.0μS/cm，這表明水中離子數量極少，因為電導率與水中離子濃度密切相關。
二、化學穩定性好
不易發生化學反應
由于雜質和離子濃度低，工業純水在一般條件下不易與其他物質發生化學反應。例如，在一些對水質要求極高的電子工業中，使用工業純水不會因為水中雜質引發的化學反應而污染產品或影響生產設備的正常運行。
對容器和管道的腐蝕性低
工業純水中的離子含量少，特別是像氯離子等具有腐蝕性的離子含量極低，所以對儲存和使用它的容器及輸送管道的腐蝕性較弱。這有助于延長容器和管道的使用壽命，減少維護成本。
三、微生物含量少
微生物生長受限
在制取工業純水的過程中，通常會采用多種手段（如紫外線殺菌、超濾等）來去除微生物或者抑制其生長。因此，工業純水中微生物（如細菌、病毒、真菌等）的含量極低，通常每毫升水中細菌數量可控制在幾個甚至更少，這對于一些對微生物敏感的工業生產過程（如制藥、電子芯片制造等）至關重要。
四、用途廣泛
電子工業
在半導體制造、集成電路生產、液晶顯示器制造等領域，工業純水用于清洗硅片、芯片等微小部件，去除表面的雜質和污染物，確保產品的電學性能和可靠性。
制藥工業
用于藥品的生產過程，如注射劑、眼藥水等的配制，以及制藥設備的清洗。因為藥品的質量和安全性要求極高，工業純水的純凈度能夠滿足這些嚴格要求。
電力工業
在火力發電、核能發電中，工業純水可作為鍋爐補給水，防止鍋爐內部結垢和腐蝕，提高發電效率，延長設備使用壽命。
實驗室
在化學分析、生物實驗等科研工作中，工業純水作為實驗用水，為實驗提供準確、可靠的實驗環境，避免水中雜質對實驗結果的干擾。
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